隨著數字化加速轉型和信息科技競爭的加劇,芯片成為了熱門產品。據相關統計數據顯示,全球芯片的需求比產能高約10%~30%,為了更好地解決這一問題,只有不斷提高芯片生產產能。
提高芯片生產產能。這也就意味著與芯片生產息息相關的產業都將提升產能,這也就帶動了與其相關產業的發展,其中制造過程中需要清洗的超純水需求暴漲。在芯片生產過程中,幾乎每道工序都需要超純水清洗,為了更好地供應芯片制造清洗用水的需求,超純水設備也在增加生產力度。
目前,芯片產業應用的超純水設備摒棄了傳統工藝,核心是采用的膜分離技術,應用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產超純水,不僅產水量增加,出水水質能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標準, 滿足了芯片行業用水需求。
超純水設備
該超純水設備采用的工藝具體如下:
1、采用的反滲透工藝:利用反向滲透原理,有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等,降低水質的離子含量。
2、采用的EDI模塊:無需酸堿再生,運行成本低,EDI系統的自動化程度很高,可以連續工作,出水水質好且穩定,出水電阻率≥15MΩ·CM。
3、采用的拋光混床工藝:專門用于高純度的水處理系統中的終端精制器,能夠將水中的離子含量降到低于1PPT級別,出水電阻率可達18.2MΩ·CM。
以上,介紹的工藝就是目前芯片產業應用的超純水設備主要組成部分。萊特萊德上海水處理公司超純水設備在保證出水達標的同時,還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節,為芯片生產提供了高品質的超純水。
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編輯:柒柒 技術:木子